에이디피엔지니어링은 12일 플라즈마처리장치와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
에이디피엔지니어링 관계자는 "이번 발명은 전극이 서로 마주보는 구조를 회피하여 냉각가스에 의해 방전이 발생할 수 있는 가능성을 원천적으로 방지하는 장점이 있다"고 설명했다.
입력 2006-10-12 13:07
에이디피엔지니어링은 12일 플라즈마처리장치와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
에이디피엔지니어링 관계자는 "이번 발명은 전극이 서로 마주보는 구조를 회피하여 냉각가스에 의해 방전이 발생할 수 있는 가능성을 원천적으로 방지하는 장점이 있다"고 설명했다.
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