주성엔지니어링은 16일 반도체소자의 제조장치와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
주성엔지니어링 관계자는 "이번 발명은 챔버의 잔류 기체물질을 외부로 배기함에 있어서, 챔버의 반응영역 전 면적에 걸쳐 고른 배기압력을 부여할 수 있도록 판 상의 배기플레이트를 구비해 서셉터와 챔버의 저면 사이에 수평하게 게재함으로써, 보다 개선된 배기구조를 가지는 액정표시장치용 챔버를 제공한다"고 설명했다.
주성엔지니어링은 16일 반도체소자의 제조장치와 관련해 특허를 취득했다고 밝혔다.
주성엔지니어링 관계자는 "이번 발명은 챔버의 잔류 기체물질을 외부로 배기함에 있어서, 챔버의 반응영역 전 면적에 걸쳐 고른 배기압력을 부여할 수 있도록 판 상의 배기플레이트를 구비해 서셉터와 챔버의 저면 사이에 수평하게 게재함으로써, 보다 개선된 배기구조를 가지는 액정표시장치용 챔버를 제공한다"고 설명했다.
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