테스는 '가스공급부 및 이를 구비한 박막증착장치' 특허권을 취득했다고 9일 공시했다.
회사측은 "혼합가스의 집중 현상을 방지하고 기판을 향해 고루 분사해 공급할 수 있어 균일한 증착막을 형성하는데 기여하여 증착 효율성을 향상시켰다"며 "관련 기술을 반도체 장비에 적용하고 R&D활동에도 응용해 제품경쟁력 강화에 활용할 계획"이라고 밝혔다.
테스는 '가스공급부 및 이를 구비한 박막증착장치' 특허권을 취득했다고 9일 공시했다.
회사측은 "혼합가스의 집중 현상을 방지하고 기판을 향해 고루 분사해 공급할 수 있어 균일한 증착막을 형성하는데 기여하여 증착 효율성을 향상시켰다"며 "관련 기술을 반도체 장비에 적용하고 R&D활동에도 응용해 제품경쟁력 강화에 활용할 계획"이라고 밝혔다.
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