이석희 SK하이닉스 사장 "中 EUV 장비 도입, 아직 시간 많이 남아"

이석희 SK하이닉스 사장이 미국 정부가 중국 D램 공장 내 EUV(극자외선) 장비 반입을 반대하는 것과 관련해 "아직 시간이 많이 남은 얘기"라며 투자 지연에 대한 시장의 우려를 일축했다.

이 사장은 22일 서울 강남구 삼성동 코엑스에서 열린 '제14회 반도체의 날' 행사를 마친 뒤 기자들과 만나 "(미국 정부의 조치가) 새로운 뉴스는 아니다"라며 "현재 (EUV 기술을 도입한) 1a 나노미터 D램 양산을 7월부터 시작했다"라며 이같이 밝혔다. 이어 "(미국과) "앞으로 협조하면서 잘 대응할 것"이라고 덧붙였다.

우시 공장은 SK하이닉스의 D램 생산기지 중 신규 공정 도입이 비교적 느려서 미국 정부 조치에 별다른 불이익을 받지 않았다고 강조한 것이다.

실제로 SK하이닉스 우시 공장의 EUV 장비 반입까지는 아직 수년이 남은 것으로 알려졌다. 올해 도입된 EUV 장비 역시 대부분 이천 공장으로 반입된 것으로 전해진다.

앞서 18일(현지시간) 로이터통신은 SK하이닉스가 중국 우시 공장의 공정 최적화를 위해 네덜란드 ASML의 EUV 노광장비를 들여올 예정이었지만 미국 정부 반대로 이 계획이 무산됐다고 보도했다.

그러면서 스마트폰과 데이터센터에 이르기까지 전 영역에 사용되는 D램 최대 공급업체 중 한 곳인 SK하이닉스가 미국과 중국의 지정학적 분쟁에서 다음 희생양이 될 수 있다고 분석했다.

SK하이닉스는 현재 우시에서 D램 공장을 운영 중이며, SK하이닉스 파운드리 자회사 SK하이닉스 시스템IC도 우시에서 생산 설비를 가동하고 있다. 우시 공장이 생산하는 D램이 SK하이닉스 전체 D램 생산분 중 30~40%를 차지한다.

한편, 이날 이 사장은 중국의 승인 절차만 남은 SK하이닉스의 인텔 낸드사업부 인수를 위한 경쟁 당국 승인이 연내 마무리될 수 있냐는 질문에는 "적극적으로 협업하고 있다"라고만 답했다.