하이닉스반도체, 중국 후공정 합작공장 준공

입력 2010-06-17 11:00
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하이닉스반도체는 17일 중국 강소성 무석시에서 무석태극실업유한공사와 합작으로 설립한 후공정 합장공장인 하이테크반도체 유한공사의 준공식을 가졌다고 밝혔다.

이날 준공식은 하이닉스반도체 권오철 사장, 모소평 무석시장, 협력업체, 고객사 등 300여 명의 국내외 인사들이 참석한 가운데 진행됐다.

중국 후공정 합작공장은 지난 2009년 7월 건설이 시작돼 올해 3월부터 시험생산에 들어갔다. 현재 생산규모는 1기가비트(Gb) D램 기준으로 월 1억개 수준이며 연간 3억달러 이상의 매출이 예상되고 종업원은 1600여명이다.

하이닉스는 이번 중국 후공정 합작공장의 설립으로 중국내 전·후공정 일괄생산체제를 갖추게 됐으며 이를 통해 생산 및 물류비 절감 등 원가경쟁력이 더욱 강화될 것이라고 설명했다. 또 세계 최대 D램 시장인 중국에서 2009년 기준 45%의 점유율로 1위 업체인 하이닉스의 위상도 한층 높아질 것으로 기대했다.

권오철 사장은 축사에서 “하이테크반도체의 설립은 강소성과 무석시의 적극적인 협조가 있었기에 가능했다”며“한·중간 긴밀한 협조아래 경쟁력 있는 후공정 전문회사로 성장시킬 것”이라고 밝혔다.

한편 하이테크반도체유한공사는 3억5000만 달러가 투자됐으며 무석태극실업유한공사가 55%, 하이닉스반도체가 45%의 지분을 소유하고 있다.

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