테스는 23일 기판처리장치에 대한 특허권을 취득했다고 공시했다.
회사측은 “모든 기판이 일정한 양과 시간 동안 공정가스에 노출되는 구조를 형성함으로 기판에 증착되는 박막의 균일도가 향상되는 장점이 있다”고 설명했다.
테스는 23일 기판처리장치에 대한 특허권을 취득했다고 공시했다.
회사측은 “모든 기판이 일정한 양과 시간 동안 공정가스에 노출되는 구조를 형성함으로 기판에 증착되는 박막의 균일도가 향상되는 장점이 있다”고 설명했다.
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