테스는 24일 플라즈마 처리 장치에 대한 특허권을 취득했다고 공시했다.
회사측은 "기판의 정렬 오차를 줄일 수 있고 전극의 간격을 정밀하게 제어할 수 있어 공정효율을 극대화 할 수 있다"라며 "기판의 파티클 및 퇴적물도 효과적으로 제거할 수 있다"고 설명했다.
입력 2012-02-24 14:54
테스는 24일 플라즈마 처리 장치에 대한 특허권을 취득했다고 공시했다.
회사측은 "기판의 정렬 오차를 줄일 수 있고 전극의 간격을 정밀하게 제어할 수 있어 공정효율을 극대화 할 수 있다"라며 "기판의 파티클 및 퇴적물도 효과적으로 제거할 수 있다"고 설명했다.
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