삼성, 1조2000억원 펀드조성 미 실리콘밸리 본격진출

입력 2013-02-05 09:40
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삼성전자가 약 1조2000억원 규모의 밴처펀드를 앞세워 미국 실리콘벨리에 본격 진출한다.

삼성전자는 4일(현지시간) 캘리포니아주 멘로파크에 있는 샌드힐로드호텔에서 현지 IT전문기자들을 상대로 간담회를 연자리에서, 1억 달러(약 1조2000억원) 규모의 ‘삼성촉진펀드(Samsung Catalyst Fund)’를 조성해 초기단계(early-stage) 기업을 포함한 다양한 혁신 프로젝트에 투자할 계획이라고 밝혔다.

이어 삼성전자는 10억 달러 규모의 기존 삼성벤처스 아메리카펀드를 통해 다양한 규모의 글로벌 기업들에 대한 인수·합병(M&A)과 투자 등을 진행해 글로벌 혁신을 촉진할 계획이라고 밝혔다.

삼성전략혁신센터(SSIC)를 관장하는 손영권 사장겸 최고전략책임자(CSO)는 “이번에 마련된 모델은 삼성이 다양한 형태의 투자와 지원 등으로 기업가나 혁신가들의 혁신을 촉진하는 한편, 그들로 인해 삼성의 기술과 글로벌 브랜드가 제고되는 이른바 상생모델”이라고 설명했다.

이번에 조성된 펀드는 주로 부품과 소재 등과 관련된 기업이나 연구센터 등에 제공될 예정이다. SSIC는 투자의 일환으로 연내 현지에서 기업가들과 예술가, 엔지니어 등 혁신가들을 대상으로 ‘삼성크리에이트 챌린지(SamsungCreate Challenge)’라는 혁신 경진대회를 열어 우승자에게 1000만 달러의 초기 투자자금과 각종 지원을 제공할 예정이다.

삼성전자는 이 같은 투자를 위해 지난해 8월 미국에 SSIC 본사를 개설하고, 한국과 이스라엘 등에도 지사 사무실을 열었다. 소프트웨어와 서비스 부문과 관련해서는 인근 팰러앨토에 스타트업 액셀러레이터인 개방혁신센터(SOIC)를 별도로 신설했다. SOIC는 구글 부사장 출신인 데이비드 은 부사장이 관장한다.

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