SK하이닉스가 18일(현지시간) 미국 캘리포니아주 산호세에 위치한 미국 법인에서 ‘2014 SK하이닉스 HBM(초고속 메모리) 심포지엄’을 개최했다고 19일 밝혔다.
이번 행사에는 관련 산업을 주도하는 20여개 주요 고객 및 파트너 업체에서 100여명이 참석했다. 특히 SK하이닉스와 함께 HBM을 개발하고 있는 협력 회사들이 직접 발표자로 참여해 의미를 더했다. HBM은 칩셋, 파운드리, 패키징 및 완제품 업체 등 고객 및 파트너와의 협업이 중요하다.
SK하이닉스는 지난해 말 TSV(실리콘관통전극) 기술을 적용한 HBM을 업계 최초로 개발하고, 올해 상반기 고객들에게 샘플을 전달한 바 있다. 이어 중장기 HBM 로드맵을 소개하는 이번 심포지엄을 마련함으로써 SK하이닉스는 향후 다양한 응용 분야의 고객들과 HBM 생태계 확대를 위한 협력을 강화할 수 있을 전망이다.
SK하이닉스가 현재 소개한 HBM은 TSV 기술을 활용해 20나노급 D램을 4단 적층한 형태다. 1.2V 동작 전압에서 1Gbps 처리 속도를 구현할 수 있어, 1024개의 정보출입구(I/O)를 통해 초당 128GB의 데이터 처리가 가능하다. 고사양 그래픽 시장 채용을 시작으로 향후 네트워크, 슈퍼컴퓨터, 서버 등으로 응용 범위가 확장될 전망이다.
SK하이닉스 미국 법인 기술마케팅 담당 강선국 수석은 “다양한 응용 분야의 고객 및 파트너들과 HBM에 대한 상호 이해를 높일 수 있는 좋은 기회였다”며 “협력 관계를 더욱 강화해 차세대 고성능, 저전력, 고용량 제품인 HBM 시장을 선도해 나가겠다”고 말했다.