동진쎄미켐, 포토레지스트 증설공장 착공…日 수출규제 대응 국산화 '박차'

정승일 산업차관, 동진쎄미켐 화성공장 현장 방문

▲정승일 산업통상자원부 차관 (연합뉴스)

반도체·디스플레이용 소재기업인 동진쎄미켐이 1분기에 일본 수출규제 품목 중 하나인 포토레지스트 생산 공장 증설에 착공한다.

포토레지스트는 일본의 수출규제 3개 품목 중 하나로 이번 공장 증설은 일본의 의존도를 낮추는 데 크게 기여할 것으로 기대된다.

정승일 산업통상자원부 차관은 15일 경기도 화성시 소재 동진쎄미켐을 찾아 포토레지스트의 국내 생산 기업 임직원을 격려하고 현장의 목소리를 들었다.

동진쎄미켐은 극자외선(EUV)용 포토레지스트의 전 단계인 반도체용 불화아르곤 액침(ArF-immersion) 포토레지스트를 2010년 국내 최초로 개발·생산한 반도체·디스플레이용 소재 전문기업이다.

동진쎄미켐은 올해 1분기 중에 불화크립톤(KrF), 불화아르곤(ArF) 등 포토레지스트 생산 공장 증설에 착공할 예정이며 이미 설계는 완료한 상태다.

산업부 관계자는 "증설공장이 계획대로 완공 후 내년 초 정상 가동되면 동진쎄미켐은 국내 포토레지스트 생산량을 현재보다 2배 이상 확대·생산하게 된다"고 설명했다.

포토레지스트는 감광재로써 반도체의 노광(Photo) 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 사용되는데 반응하는 빛의 파장에 따라 주로 KrF(248nm), ArF(193nm), EUV(13.5nm)용 등으로 구분되며 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 공정 미세화가 가능하다.

일본은 지난해 7월 포토레지스트와 고순도 불화수소, 플루오린 폴리이미드 등 반도체·디스플레이 핵심 소재 3개 품목에 대한 수출규제를 단행했다.

웨이퍼(기판) 위에 패턴을 형성하는 포토 리소그래피 공정에서 사용되는 감광성 재료인 포토레지스트의 경우 지난해 1∼6월 한국의 전체 수입액의 92%가 일본산이었다.

다만 일본의 수출규제 이후 대일(對日) 수입 의존도를 낮춰 공급안정성을 빠르게 확보해 나가고 있는 중으로 7~11월 대일 수입은 85%까지 낮아졌다.

특히 지난 9일 미국의 듀폰으로부터 EUV용 포토레지스트 개발·생산시설 등 구축을 위한 2억8000만 달러 규모의 한국 투자를 확정받았으며 국내 기술개발, 양산평가 등을 통해 포토레지스트의 국내 기술력을 확보해 나갈 예정이다.

정 차관은 "지난해 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 노력한 결과 포토레지스트를 포함해 3대 품목 등 핵심소재의 공급 안정성이 확보돼 가고 있다"며 "동진쎄미켐의 생산공장 증설 착공 등으로 포토레지스트의 국내 공급 안정성이 한층 더 강화될 것으로 기대한다"고 말했다.

그는 이어 "올해를 미래 10년을 만들어가는 소부장 산업 경쟁력 확보의 원년으로 삼고, 대외여건 변화와 관계없이 소부장 경쟁력 강화정책을 지속적이고 일관적으로 추진해 나가겠다"고 강조했다.